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精密離子蝕刻鍍膜系統


型號:PECS II, 685
規格:8KV, 2 target, Ar etching, film thickness monitor
技術文件:尚未上傳
廠商:Gatan

Feature:

  • Penning ion gun: High current density, more economic
  • 2 ion Gun
  • Dry etching and large area for observation
  • Sample tilt, rock and rotation control.
  • Ar gas source for physical bombardment 
  • High quality ion beam coating with amorphous layer, good for high magnification observation.
  • 2 candidate target for ion beam coating
  • Film thickness monitor to setup end point for auto stop



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