SPI 的Os/C plasma coater system 採用化學蒸鍍方式來鍍膜，是高階FESEM 影像觀察的絕佳選擇

本系統主要特點如下：

• 可得到高導電度卻厚度極薄(~1nm)之Os 導電膜, 觀察影像更接近樣品原貌
• 低溫coating，對於生物，高分子與熱敏感材料是絕佳的選擇
• CVD 電漿鍍膜方式無PVD物理鍍膜的陰影效應， 對表面不平整樣品的鍍膜均勻度較為有利
• 可得到高導電度卻厚度極薄(~1nm)之Os 導電膜, 觀察影像更接近樣品原貌
• Os 導電膜接近非晶相, 適合高倍觀察
• Os 導電膜不易氧化, 可多次觀察
• 全自動化操作
• OPC-60A 鋨鍍膜機或OPC-80T 鋨/碳鍍膜機供選擇