電子繞射(ED, Electron Diffraction)是穿透式電子顯微鏡用來鑑定材料結晶相的方法。然而晶體與電子束間的角度變化影響繞射點能否正常顯現，而樣品厚度所造成的多重散射更讓繞射點強度的量化計算產生困難，因此傳統電子繞射多半只能利用人工調整做單點分析

       Nanomegas的進動電子繞射(PED, Precession Electron Diffraction)方法，利用電子束微小的傾角(小於3^o)並做高速旋轉(合稱為進動(Precession))解決上述繞射顯像與量化兩大問題，搭配掃描系統，可做多點或面的晶體繞射分析。由於TEM本身的高空間解析度搭配PED的掃描繞射分析功能，使得nm等級的晶體相鑑定變得可行。

       PED 系統可應用在

• 材料相分析 (Phase Analysis)
• 晶體向位分析 (Crystal Orientation Analysis)
• 材料應力分析 (Strain Analysis)
• EDS-EELS 光譜優化
• 繞射三維重構(3D Diffrcation Tomography)