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氧化矽,氮化矽薄膜窗格


型號:Silicon Oxide, Silicon Nitride Membrane Window Grids
規格:3.05mm, SiO2, Si3N4 heating
技術文件:尚未上傳
廠商:SPI

對於TEM 的In-situ 升溫實驗, 一般的碳膜或Epoxy 膠無法承受高溫, 會產生灰化的現象, 因此需要耐高溫之支持膜.

SPI 提供兩種主要的In-Situ 升溫實驗支持膜, 將是升溫樣品桿(heating holder)的好搭檔

  1. 氮化矽薄膜窗格: 厚度由20nm~200nm, 可耐溫 1000 oC
  2. 氧化矽薄膜窗格: 厚度50nm, 可用於氮化物分析(與氮化矽材質互補), 但耐溫性比氮化矽略差



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